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  Silvaco TCAD工艺器件仿真
 ◆   Silvaco TCAD功能介绍

      Silvaco TCAD软件用来模拟半导体器件电学性能,进行半导体工艺流程仿真,还可以与其它EDA工具组合起来使用(比如spice),进行系统级电学模拟(Sentaurus和ISE也具备这些功能)。SivacoTCAD为图形用户界面,直接从界面选择输入程序语句,非常易于操作,其例子教程直接调用装载并运行,是例子库最丰富的TCAD软件之一,你做的任何设计基本都能找到相似的例子程序供调用。Silvaco TCAD平台包括工艺仿真(ATHENA),器件仿真(ATLAS)和快速器件仿真系统(Mercury),尤其适合喜欢在全图形界面操作软件的用户。

◆  ATHENA工艺仿真系统; ATLAS器件仿真系统

ATHENA工艺仿真系统

    ATHENA工艺仿真系统使得工艺和集成工程师能够开发和优化半导体制造工艺流程。 ATHENA 提供一个易于使用、模块化的、可扩展的平台,可用于半导体材料的模拟离子注入、扩散、蚀刻、淀积、光刻、氧化及硅化。ATHENA通过仿真取代了耗费成本的硅片实验,从而缩短了开发周期并且提高了成品率。
ATHENA工艺仿真系统:
可迅速和精确地模拟应用在CMOS、双极、SiGe/SiGeC 、SiC、SOI 、III-V、光电子和功率器件技术的所有关键加工步骤;
精确地预测器件结构中的几何参数、掺杂分布和应力;
简单易用的软件集成绘图性能,自动网格生成,工艺步骤的图形化输入, 以及以前的TMA工艺deck文件的简便导入;
博士级物理学家组成的TCAD中心支持团队,为先进的半导体技术不断开发模型;
帮助IDMs、芯片生产厂商以及设计公司优化半导体工艺,使其达到速度、产量、击穿、泄漏电流和可靠性的最佳结合;
加速新工艺开发的投产和设备升级。

ATHENA工艺仿真系统组件:

Athena组件
ATHENA工艺仿真系统结构:

Athena结构图

ATLAS器件仿真系统

    ATLAS器件仿真系统使得器件技术工程师可以模拟半导体器件的电气、光学和热力的行为。ATLAS提供一个基于物理,使用简便的模块化的可扩展平台,用以分析所有2D和3D模式下半导体技术的的直流,交流和时域响应。ATLAS器件仿真系统:
无需昂贵的分批作业试验,即可精确地特性表征基于物理的器件的电气、光学和热力性能;
解决成品率和工艺制作过程变异的问题,使其达到速度、功率、密度、击穿、泄漏电流、发光度和可靠性的最佳结合;
完全与ATHENA工艺仿真软件整合,具有完善的可视化软件包,大量的实例数据库和简单的器件输入;
最多选择的硅模型,III-V、II-VI、IV-IV或聚合/有机科技,包括CMOS、双极、高压功率器件、VCSEL、TFT、光电子、激光、LED、CCD、传感器、熔丝、NVM、铁电材料、SOI、Fin-FET、HEMT和HBT;
分支机构遍布世界各地,有专门的物理学博士提供TCAD支持;
与专精稳定和有远见的行业领导者合作,在新技术强化上有活跃的发展计划;
直接把ATLAS结果输入到UTMOST进行SPICE参数提取,将TCAD技术应用到整个流片(Tapeout)过程。

ATLAS器件仿真系统组件:

Atlas组件

ATLAS器件仿真系统结构:

Atlas结构

 

TOMEDA提供的Silvaco软件学习资料清单:

Silvaco TCAD Linux
Silvaco Manual
Silvaco Training
入门教程
Linux虚拟机系统6.0GB
网页教程内置
PDF文档19MB
操作视频20MB
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